中微半导体公司 一个在半导体设备领域国产替代技术最靠前的公司
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中微半导体公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。公司成立以来一直瞄准世界科技前沿，在半导体设备制造产业深耕多年，专业技术达到同期国际水平。
公司产品涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED外延片生产、功率器件、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域。其中最让人欣喜的是，公司的等离子体刻蚀设备从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线已应用在国际一线客户。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产。目前，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。公司主要为集成电路、LED外延片、功率器件、MEMS等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、MOCVD设备及其他设备。
一、主要亮点介绍:
1.CCP刻蚀设备
公司CCP刻蚀设备产品竞争优势突出，PrimoAD-RIE、PrimoSSCADRIE、PrimoHD-RIE等产品大量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，部分市场占有率已进入全球前三位。一是在先进逻辑电路方面，持续升级硬件性能，已经成功取得5纳米及以下逻辑电路产线的大量订单；二是在存储电路方面，公司的刻蚀设备在64层及128层3DNAND的生产线得到广泛应用，随着3DNAND芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单也稳步增长；三是在动态存储器应用方面，开始工艺开发及验证。
2.ICP刻蚀设备
公司ICP刻蚀设备已经逐步趋于成熟。Primonanova ICP刻蚀产品已经在15家以上客户的生产线上进行100多个ICP刻蚀工艺的验证，部分工艺的刻蚀性能和量产指标已经满足客户的要求并投入量产，且持续扩展到更多刻蚀应用的验证。目前，PrimoNanova已经顺利交付超过180台反应腔，且在客户端完成验证的应用数量也在持续增加。公司研发并推出了的具有高输出率特点的双反应台ICP刻蚀设备PrimoTwin-Star刻蚀设备，该ICP刻蚀设备已经在国内领先的客户生产线上完成认证，并收到更多国内客户的订单。公司有序推进进行下一代ICP刻蚀产品的技术研发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM和128层以上的3DNAND存储芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。
3.MOCVD设备
公司蓝光照明PrismoA7以及深紫外LED外延片PrismoHiT3产品在2021年6月正式发布用于高性能MiniLED量产的MOCVD设备PrismoUniMax。该设备专为高产量而设计，具备高波长均匀性、高良率等优点，此外，该设备可同时加工164片4英寸或72片6英寸外延片，已收到来自国内多家领先客户的批量订单合计超过100腔。PrismoUniMax设备拓展了公司的MOCVD设备产品线，为全球LED芯片制造商提供极具竞争力的MiniLED量产解决方案。同时，公司也正在开发针对MicroLED应用的专用MOCVD设备。
4.第三代半导体设备
公司布局了用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，开发GaN功率器件量产应用的MOCVD设备，已交付国内外领先客户进行生产验证。此外，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，将进一步丰富公司的产品线。
5.薄膜沉积设备
公司的钨填充CVD设备获得了阶段性进展。应用于金属互联的CVD钨制程设备能力已能够满足客户工艺验证的需求，产品正与关键客户对接验证。基于金属钨CVD设备，公司正进一步开发CVD和ALD设备，实现更高深宽比和更小的关键尺寸结构的填充，以满足高端逻辑器件和先进存储芯片的需求。此外，公司EPI设备已进入样机的设计，制造和调试阶段，以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。
6.VOC净化设备
公司的子公司中微惠开发制造了工业用大型VOC净化设备。设备可根据客户的要求灵活配置不同处理规模的系统，提供给客户可靠、稳定、安全和节能的VOC净化解决方案。
7.通过增资方式进入光学薄膜测量设备和缺陷检测设备。
2022年3月，公司拟以现金方式认购上海睿励新增注册资本，持股比例由20.4467%增加至29.3562%。上海睿励主营的产品为光学膜厚测量设备和光学缺陷检测设备，以及硅片厚度及翘曲测量设备等。上海睿励自主研发的12英寸光学测量设备TFX3000系列产品，已应用在65/55/40/28纳米芯片生产线并在进行14纳米工艺验证，在3D存储芯片产线支持64层3DNAND芯片的生产，并正在验证96层3DNAND芯片的测量性能。上海睿励应用于LED蓝宝石衬底图形检测的自动光学检测设备，也已成功销售到国内LEDPSS衬底和LED芯片生产线。上海睿励正在开发下一代可支持更高阶芯片制程工艺的膜厚和OCD测量设备以及应用于集成电路芯片生产的缺陷检测设备，进一步扩大可服务的市场规模。
8.股东情况。
公司第一大股东上海创投的持股比例为 15.64%，第二大股东巽鑫投资的持股比例为15.15%。巽鑫投资成立于2014年12月15日，巽鑫投资股东为国家集成电路产业投资基金股份有限公司，持股比例100%。
二、2022年上半年经营情况。
上半年公司实现营业收入19.72亿元，同比增长47.30%；归母净利润4.68亿元，同比增长17.94%；扣非归母净利润4.41亿元，同比增长615.26%。公司上半年毛利润率为45.36%，同比增加3.02pct，主要原因为刻蚀设备、MOCVD设备。新签订单大幅提升保证公司未来业绩无虞。公司上半年新签订单为30.57亿元，同比增长61.83%。
刻蚀设备收入占比过半仍为主要收入来源，薄膜设备将蓄势待发。公司CCP刻蚀、ICP刻蚀设备不断取得突破的同时，也在加紧大马士革工艺、极高深宽比工艺以及新一代刻蚀设备的研发。
CCP刻蚀设备：国内市占率领先，先进产品开发在途。上半年收入8.86亿元，同比增长13.98%，增速较慢主要系收入确认节奏；产品侧，公司已完成8英寸CCP设备开发，并于上半年取得多个客户累计超30腔订单。
同时，公司正加紧新一代刻蚀设备的研发；客户侧，公司已取得5nm及以下逻辑电路客户、64层及128层与更高层数3D NAND客户重复订单。
ICP刻蚀设备：进入快速放量期，已获国内多个头部客户订单。上半年收入为4.13亿元，同比增长414.08%。
薄膜设备：LPCVD设备方面，2022年上半年公司的钨填充CVD设备获得了阶段性进展，该设备能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用以及200层以上3D NAND中的多个关键应用，目前已通过关键客户的工艺验证，公司正积极推进设备在客户产线进行量产验证；EPI设备方面，公司主要突破方向为先进制程中锗硅外延生长，来满足28nm及以下的逻辑器件、存储器件和功率器件等领域客户的电性和可靠性需求，该设备目前已进入样机的制造和调试阶段。
MOCVD设备：氮化镓基MOCVD绝对领先，氮化镓和碳化硅功率器件、Micro-LED MOCVD加速开发中，2022年上半年MOCVD设备收入2.41亿元，同比增长9.90%，毛利率为35.42%，同比提升4.65pct。公司MOCVD设备毛利率提升主要系公司推出的应用于Mini LED显示屏的MOCVD设备的毛利率较以往公司MOVCD设备的25%左右提升至35%以上，且该产品推出后快速占领市场，因此对MOCVD设备整体毛利率提高。
综述，中微半导体公司目前在国内半导体设备制造领域处于领先地位，部分产品达到国际先进水平。公司值得长期关注。
以上意见仅为个人观点，不作为投资建议。
